Además de IBM, que lleva mucho tiempo investigando chips en Albany, las empresas que participan en el proyecto incluyen Micron Technology, Applied Materials y Tokyo Electron.
El foco del esfuerzo es el Albany Nanotech Complex, un grupo de edificios de investigación afiliados a la Universidad Estatal de Nueva York en Albany. El estado planea gastar alrededor de $500 millones para construir un nuevo edificio de sala limpia de 50,000 pies cuadrados.
Se necesita un edificio diferente para dar cabida al próximo gran avance en una tecnología llamada litografía, que proyecta patrones de circuitos en obleas de silicio para fabricar chips. Se necesitan avances en dichos equipos para crear transistores más pequeños y otros circuitos para aumentar la potencia de las computadoras y otros dispositivos.
Los chips más sofisticados se fabrican actualmente utilizando una tecnología llamada litografía ultravioleta extrema o EUV. La empresa holandesa ASML es el proveedor dominante de las máquinas, cuyas autoridades de Estados Unidos y Países Bajos han impedido que se vendan a China como parte de un esfuerzo por limitar el progreso de ese país en la fabricación de chips.
Albany Nanotech posee prototipos de herramientas EUV y actualmente opera una versión comercial. Según el nuevo plan, Nueva York invertirá 500 millones de dólares para comprar un sistema EUV de próxima generación, conocido con la frase «High NA», por apertura numérica, que permitirá al centro desarrollar chips mucho más avanzados.
